• 产品特点:
智能脉冲识别和实时控制
单脉冲能量最高可达100 μJ
脉宽 200 fs ~10 ps 可调满足多种加工需求
支持 Burst/ PSO/ POD等多种脉冲控制方式
稳定可靠的一体化结构设计
• 应用领域:
半导体晶圆加工
新能源电池材料加工
光学波导芯片加工
飞秒光栅刻写
高分子材料加工与处理
GENE-DW-1030/515是一款针对高效率工业场景研发的智能稳定飞秒激光器，智能算法加持可实现快速冷启动，脉冲参数智能识别和自动优化以及功率能量脉宽的长期稳定。激光器输出脉宽窄，光束质量和脉冲时域质量高，精密加工时热影响区小。一体化结构设计紧凑可靠，光束指向稳定性高，支持Trig、Gate、Burst、POD、PSO等多种触发工作模式，可保障工业用户7x24小时连续稳定工作。 此款双波长飞秒激光器集成1030nm和515nm两种波长输出可选，脉冲宽度小于350fs，1030nm单脉冲能量大于20μJ@1MHz，515nm单脉冲能量大于10uJ@1MHz，长期功率稳定性优于0.5% RMS。该产品可广泛应用于半导体晶圆隐切，钙钛矿电池划线，光波导加工，光栅刻写，金属、玻璃、高分子材料加工与表面处理等领域。
技术指标 SPECIFICATIONS | ISL-DW-20-SHG | ISL-DW-40 |
中心波长（Wavelength） | 515±2 nm | 1030±5 nm |
平均功率（Average Power） | 20 W | 40 W |
最大单脉冲能量（Pulse Energy） | 20 uJ @1 MHz | 40 uJ @1 MHz |
脉冲宽度（Pulse Duration） | 200 fs ~ 10 ps | 200 fs ~ 10 ps |
峰值功率（Peak Power） | > 50 MW | > 100 MW |
重复频率（Repetition Rate） | 1 Hz~ 25 MHz | 1 Hz~ 25 MHz |
光束质量（Beam Quality） | M2≤1.3 | |
光斑发散角（Beam Divergence） | < 1 mrad | |
光斑圆度（Beam Circularity） | ≥90 % | |
光束直径（Beam Diameter） | 3 ±1 mm, 1/e2 | |
偏振消光比（Polarization Extinction Ratio） | > 100 : 1 | |
偏振态（Polarization State） | 线偏振 | |
脉冲宽度稳定性（Pulse Stability） | < 5 % @最小脉宽 @12 hours | |
脉冲能量稳定性（Pulse Energy Stability） | < 0.5% RMS @12 hours | |
平均功率稳定性（Power Stability） | < 0.5% RMS @12 hours | |
工作环境温度 | 20~30 ℃ | |
最大功耗（Maximum Power Dissipation） | 500 W | |
重量（Weight） | 70 kg | |
冷却方式（ Cooling Method） | 水冷 | |
* 可定制1030 nm/ 515 nm双波长输出 | ||
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